الصين تطوّر آلة EUV محلية لكسر احتكار رقائق الذكاء الاصطناعي
كشفت تقارير حديثة عن تقدم صيني لافت في مجال تصنيع أشباه الموصلات، بعد بناء نموذج أولي لآلة EUV متقدمة قد تغيّر موازين القوة في سباق الرقائق العالمي.
تفاصيل الخبر
في مختبر عالي الحراسة بمدينة شنتشن، تمكن علماء ومهندسون صينيون من تشييد نموذج أولي لآلة طباعة حجرية بالأشعة فوق البنفسجية القصوى (آلة EUV)، وهي التقنية الأهم لإنتاج الرقائق المتقدمة المستخدمة في الذكاء الاصطناعي والهواتف الذكية والأنظمة العسكرية.
ويمثل هذا التطور اختراقًا نوعيًا، خصوصًا أن الولايات المتحدة وحلفاءها سعوا لسنوات إلى منع الصين من الوصول إلى هذه التكنولوجيا الحساسة.
- اكتمل بناء النموذج الأولي مطلع عام 2025، ويخضع حاليًا لاختبارات مكثفة داخل منشأة شديدة السرية.
- شارك في تطوير الآلة فريق من مهندسين سابقين في شركة ASML الهولندية، بعد تفكيك وإعادة هندسة أنظمة EUV الغربية.
- الآلة الصينية قادرة بالفعل على توليد الأشعة فوق البنفسجية القصوى، لكنها لم تنجح بعد في إنتاج رقائق عاملة.
- يشغل النموذج مساحة تقارب طابقًا كاملًا داخل مصنع، وهو أكبر وأقل دقة من آلات ASML التجارية، لكنه يمثل خطوة عملية أولى.
- المشروع يأتي ضمن مبادرة حكومية سرية استمرت نحو ست سنوات لتحقيق الاكتفاء الذاتي في صناعة الرقائق، بمشاركة مؤسسات بحثية كبرى وشركات تقنية محلية.
الأهداف المستقبلية
يُنظر إلى مشروع آلة EUV على أنه حجر الأساس لطموح صيني واسع في كسر الهيمنة الغربية على سلاسل توريد أشباه الموصلات.
وتسعى الصين من خلاله إلى:
- إنتاج رقائق متقدمة محليًا دون الاعتماد على المعدات الغربية الخاضعة للعقوبات.
- تطوير أنظمة EUV صينية بالكامل من حيث التصميم والمكونات البصرية الدقيقة.
- دعم الصناعات الاستراتيجية مثل الذكاء الاصطناعي والحوسبة الفائقة والاتصالات.
- تقليص الفجوة التكنولوجية مع الشركات العالمية الرائدة خلال السنوات القليلة المقبلة.
رغم التحديات التقنية الكبيرة، يشير هذا التقدم إلى أن الصين باتت أقرب مما كان متوقعًا لتحقيق استقلالها في صناعة الرقائق، ما قد يعيد رسم خريطة المنافسة التكنولوجية عالميًا.
